Город: Ростов

Фоторезистивное покрытие

Фоторезистивное покрытие Фоточувствительный материал равномерно распределяется на поверхности полупроводниковой пластины. Он используется для переноса топологического рисунка микросхемы в функциональный слой, расположенный на пластине. Держатели полупроводниковых пластин из ПОЛИИМИДА или ПОЛИЭФИРЭФИРКЕТОНА: низкое газовыделение, стабильность размеров, химическая стойкость, износостойкость.